中國臺灣真空鍍膜設備公司
【離子鍍的歷史】： 真空離子鍍膜技術是近幾十年才發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術。在離子鍍技術興起的40多年來取得了巨大的進步，我國也有將近30多年的離子鍍研究進程。 【離子鍍的原理】： 蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于 真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表 面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并 被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘 附于工件表面的鍍層。 【離子鍍的優(yōu)缺點】： 優(yōu)點：膜層附著力好，膜層致密，具有繞度性能，能在形狀復雜的零件表面鍍膜。 缺點：離子鍍的應用范圍不廣；膜與基體間存在較寬的過渡界面。會有氣體分子吸附。真空鍍膜設備技術教程。中國臺灣真空鍍膜設備公司
【真空鍍膜設備的分類】：這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設備和化學沉積設備。現(xiàn)在這樣回答也是沒錯的，但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應用領域上可以分成以下幾類：傳統(tǒng)光學器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：單腔體或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。新材料領域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設備。半導體及相似工藝：化學氣相沉積設備。功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發(fā)設備玻璃工藝：濺射式連續(xù)線其余的就得歸到“工藝定制設備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設備，太陽能的共蒸發(fā)設備，光纖鍍膜設備，太陽能管設備等等陜西真空鍍膜設備的使用方法真空鍍膜設備的主要應用。
【離子鍍膜法之射頻離子鍍】： 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點是：基板溫升小，不純氣體少，成膜好，適合鍍化合物膜，但匹配較困難。可應用于鍍光學器件、半導體器件、裝飾品、汽車零件等。射頻離子鍍膜設備對周遭環(huán)境沒有不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向。目前，該類型設備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀、可轉位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外，離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍，感應離子加熱鍍，集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。
、根據(jù)自己的產(chǎn)品定位來選擇鍍膜機廠家的等級。如果產(chǎn)品定位是市場，那就要對應選擇中的設備，如果不是那就選擇中端或者低端即可。第二、中的鍍膜機設備穩(wěn)定性一定要好，且要保證配件的可靠性。因為真空鍍膜機本身就是一個比較復雜的系統(tǒng)，包括真空、自動化等多個系統(tǒng)，任何一個系統(tǒng)的部件不可靠都會直接影響著整個機器運行的穩(wěn)定性和可靠性，從而給生產(chǎn)帶來不便。第三、可以觀察一下同行業(yè)或者一些的公司都在使用哪家的真空鍍膜機，這也是減小風險的一種有效方式。真空鍍膜設備的工作原理和構成。
【真空鍍膜改善薄膜應力】： 1. 鍍后烘烤，Zui后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結構趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時間適當延長，退火時效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中，基片溫度不宜過高，高溫易產(chǎn)生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面影響。 4. 鍍膜過程離子輔助，減少應力。 5. 選擇合適的膜系匹配，第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應鍍，根據(jù)不同膜料控制氧進氣量。真空鍍膜機詳細鍍膜方法。福建索佳真空鍍膜設備有限公司
真空鍍膜設備升級改造。中國臺灣真空鍍膜設備公司
【真空鍍膜機概述】：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機構造的五大系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設定目標值；因此，只有當三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉；降低故障時間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機器利用率等。中國臺灣真空鍍膜設備公司
本文來自溢海聯(lián)創(chuàng)：http://www.cce2139.cn/Article/79c05699864.html
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